十月，来广东佛山，和光刻“宗师”切磋“武艺”

 

佛山 

一个历史悠久的武术之乡

众多的武术门派发源于此

在不断的切磋中融合发展

跟随海外华人流传于世界

今年十月

佛山即将迎来一场属于光刻人的盛会

第五届国际先进光刻技术研讨会

（IWAPS 2021）

将于2021年10月27-29日在广东佛山举办

(27日报道，28-29日参会）

欢迎大家踊跃报名，投稿

与光刻领域“宗师”们共同“切磋”

△长按识别扫码报名参会△

会议征文

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本会议被IEEE收录

接收论文将被送检IEEE Xplore及EI

摘要提交截止日期: 2021年7月01日

摘要接收通知日期: 2021年7月21日

全文稿件截止日期: 2021年9月30日

投稿邮箱：iwaps_program@ime.ac.cn

IWAPS 2020 论文集

ieeexplore.ieee.org/xpl/conhome/9286788/proceeding

（请您复制网址到浏览器中打开）

征稿范围

i. Optical Lithography

ii. Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography

iii. Advanced Patterning Technologies

iv. Metrology, Inspection and Testing

v. Design and Technology Co-optimization and Design for Manufacturability

vi. Materials

vii. Device

viii. Process

大会情况

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近年来，中国集成电路产业蓬勃发展，基于这样的形势，国际先进光刻技术研讨会（International Workshop on Advanced Patterning Solutions，IWAPS）应运而生。IWAPS为来自国内外半导体工业界、学术界的资深技术专家和优秀研究人员等提供了一个技术交流平台，参会者可以就材料、设备、工艺、测量、计算光刻和设计优化等主题分享各自的研究成果，探讨图形化解决方案，研讨即将面临的技术挑战。

自2017年以来，IWAPS已经在北京，厦门，南京，成都成功举办四届，会议投稿、会议报告与参会人数逐年增加，行业反响热烈，已经成为国内高端光刻技术领域的重要会议。此外，自2020年开始，IWAPS已经被IEEE Xplore收录，录用论文也会送审EI，会议学术水平同步提升。欢迎大家踊跃报名，投稿！

IWAPS 2021 会议筹备工作已经展开

更多信息，敬请关注会议官网

www.iwaps.org/cn

（点击原文链接可跳转）

以及“光刻人的世界”微信公众号

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