【2025年“国际光日”】中国光学学会光刻技术专业委员会：光刻系列讲座——中国光掩模技术专题绪论
发布时间：2025-11-14 阅读次数：35
光刻系列讲座
中国光掩模技术专题绪论
主讲人：陈开盛
主持人：韦亚一
报告题目：中国光掩模技术专题绪论
报告时间：2025年5月16日 10:00-11:00
腾讯会议：388-322-763
讲座内容：从集成电路平面工艺问世开始，光掩模技术与光刻技术就是共同成长、相互成就。本讲座初步介绍光掩模及其在半导体产业中的位置，产业规模与技术路线图。介绍与国际标准接轨的中国光掩模技术规格和等级设置，介绍版图设计方与流片方相互交接的制版工作单，通过典型工艺流程分析光掩模的产业生态，分析光掩模行业主要特征。介绍设立光掩模技术专题讲座的成因和宗旨。
主讲人简介
陈开盛 博士
上海光刻电子科技有限公司
上海光刻电子科技有限公司董事长，中国科学院大学行业导师，毕业于上海交通大学光学专业，全国半导体设备和材料标准化技术委员会微光刻分委会副主任，中国仪器仪表学会光机电技术与系统集成分会常务委员，中国光学学会光电技术专委会委员。
主持人简介
韦亚一 研究员
中国科学院微电子研究所
中国科学院微电子研究所研究员，中国科学院大学博士生导师，计算光刻研发中心主任，中国光学学会光刻专委会秘书长。1998年毕业于德国Stuttgart大学/马普固体研究所，获博士学位，师从诺贝尔物理奖获得者Klaus von Klitzing。先后在美国能源部橡树岭国家实验室、美国英飞凌公司纽约研发中心、美国格罗方德公司纽约研发中心工作。回国后在微电子所从事计算光刻和先进光刻工艺研究。专注于光刻技术研究已有26年。于2013年进入微电子研究所，所组建的计算光刻课题组致力于“产学研用”，与国际知名公司积极合作，建立了业界通用且领先的计算光刻研发平台。近年来本课题组共发表了论文160余篇，申请了专利100余项（含与企业联合申请），出版科学著作3部。
